发光学应用及交叉前沿 | 联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像
发光学应用及交叉前沿 | 联苯基席夫碱化合物聚集诱导发光特性及潜指纹成像
摘要:为了探究联苯基席夫碱化合物的光学性能及其实际应用,设计并合成了两种以 4,4′ 二溴联苯-2,2'-二胺为分子骨架,分别在 4,4′ 号位延长 π 共轭体系 ?2,2′ -号位引入侧基的两种席夫碱化合物 3,3′′-(4,4′′ -双(二苯胺基) ?[1,1′:4′,1′′:4′′,1′′ -四联苯基」 ?2′′,3′ -二基)双(氮杂烯基)双(亚甲基)双( [1,1′ -联苯基]-4-醇)(LFP-1)和 3,3′′ C [1,1′:4′,1′′:4′′,1′′ -四联苯基] ?2′′,3′ -二基)双(氮杂烯基)双(亚甲基)双( [1,1′ -联苯基]-4-醇)(LFP-2)。光学性能测试表明,两种化合物在二甲亚砜和水的混合溶剂中都显示激发态分子内质子转移和聚集诱导发光特性。此外,两种化合物都能使刀片、锡纸和不锈钢三种材质上的潜指纹成像,并能清晰地识别出指纹的一级、二级和三级特征细节,这将为潜指纹可视化材料的设计奠定基础。