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原子层沉积工艺对TOPCon太阳电池电性能的影响研究-太阳能2025年03期

原子层沉积工艺对TOPCon太阳电池电性能的影响研究

作者:朱少杰 王贵梅 程雅琦 王玉肖 许志卫 字体:      

摘 要:针对采用原子层沉积(ALD)工艺制备的Al2O3薄膜对TOPCon太阳电池电性能的影响进行了研究。研究结果显示:1)空间型沉积方式下制备得到的Al2O3薄膜厚度为9 nm时与时间型沉积方式下制备得到的Al2O3薄膜厚度为5 (试读)...

太阳能

2025年第03期